Entwicklung neuer Nanolacke und/oder Reinigerzusätze für Easy-to-Clean-Schichten im System Easy-to-Clean-Schicht - definierte Verschmutzung - Reinigerlösung
Förderer:
BMBF-Projekt / KMU-Innovativ, Förderkennzeichen: 03X0115B
geförderte Projektpartner:
- FEW Chemicals GmbH , Wolfen
- Leibniz-Institut für Polymerforschung Dresden e. V. (IPF)
assoziierte Projektpartner:
- Heidelberger Druckmaschinen AG, Heidelberg
Ansprechpartner:
Dr. Cornelia Bellmann
Laufzeit:
10/2010 - 9/2012
Abstract:
Zielstellung der Arbeiten ist die Entwicklung von neuen antiadhäsiven Nanolacken für Easy-to-Clean-Schichten, die den bewährten, geringen Verschmutzungseffekt aufweisen, aber auch eine deutlich verbesserte Reinigungsfähigkeit insbesondere gegen stark anhaftende Verschmutzungen erbringen und die Entwicklung von Zusätzen für Reinigungsmittel für ein effektives Gesamtsystem Easy-to-Clean-Schicht-Schmutz-Reinigungsmittel.